[科普中國(guó)]-熱蒸鍍

熱蒸鍍（Thermal Evaporation）是用于沉積薄膜的一種技術(shù)。

簡(jiǎn)介熱蒸鍍（ThermalEvaporation）是用于沉積薄膜的一種技術(shù)。源材料在真空腔中被電子束或者電阻絲加熱蒸發(fā)成氣態(tài)，氣態(tài)的源材料會(huì)直接粘附在置于原材料上側(cè)的襯底上，而不會(huì)與背景氣氛碰撞。在常用氣壓下（），0.4nm大小的顆粒的平均自由程約為60nm。

影響沉積薄膜質(zhì)量的因素蒸發(fā)腔內(nèi)熱物體產(chǎn)生的蒸發(fā)物蒸發(fā)腔內(nèi)熱物體（如加熱燈絲）產(chǎn)生的雜質(zhì)蒸發(fā)物會(huì)影響腔體的真空度，熱蒸發(fā)的源材料原子可能會(huì)與這些雜質(zhì)氣氛反應(yīng)。比如說(shuō)，如果在熱蒸鍍鋁（Al）的時(shí)候，腔體內(nèi)存在氧氣，便會(huì)反應(yīng)形成氧化鋁，便會(huì)阻礙沉積到襯底上的Al原子的量，使得沉積的Al薄膜的厚度很難精確控制。

襯底的粗糙度襯底的粗糙度也會(huì)影響沉積薄膜的質(zhì)量。由于熱蒸發(fā)的氣態(tài)源材料主要是以一個(gè)方向粘附到基底上，如果襯底的粗糙度比較大，那么沉積的薄膜則會(huì)很不均勻，因?yàn)橐r底上一些較突出的區(qū)域會(huì)阻礙蒸發(fā)物向某些區(qū)域運(yùn)動(dòng)，從而形成“梯狀覆蓋”1

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韓拯 - 研究員 - 中國(guó)科學(xué)院金屬研究所